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公司基本資料信息
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 | ★間歇加工減輕了樣品的損傷。 標(biāo)配的間歇加工模式，可以減輕對(duì)樣品的熱損傷。 |
| ★采用新開發(fā)的快速離子源 可提供500μm/h（8KV/2小時(shí)的平均值）的研磨速率 |  |
 | ★可以選擇精細(xì)拋光。 快速加工之后，通過設(shè)定精細(xì)拋光參數(shù)可以減輕離子束對(duì)加工截面表層的損傷。 |
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| 一般加工模式 | 間歇加工模式 |
| 離子加速電壓 | 2 ～ 8 kV |
| 離子束直徑 | 500μm以上(半高寬) |
| 研磨速率 | 500 μm/h（ 2小時(shí)的平均値、加速電壓8 kV、硅換算、邊緣距離100 μm ） |
| 樣品尺寸 | 11 mm（寬） × 10 mm（長(zhǎng)） × 2 mm（高） |
| 樣品移動(dòng)范圍 | X軸: ±10mm、Y軸: ±3mm |
| 樣品旋轉(zhuǎn)角度調(diào)節(jié)范圍 | ±5° |
| 操作方法 | 觸控屏、165mm顯示器 |
| 離子束氣源 | 氬氣 |
| 壓力測(cè)試 | 潘寧規(guī) |
| 排氣系統(tǒng) | 渦輪分子泵、機(jī)械泵 |
| 尺寸重量 | 主機(jī): 545 mm（寬） × 550 mm（長(zhǎng)） × 420 mm（高）、66kg 機(jī)械泵: 150 mm（寬） × 427 mm（長(zhǎng)） × 230 mm（高）、約16 kg |
離子研磨儀IB-19510CP
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