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公司基本資料信息
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X射線鍍層測厚儀的測量原理
物質經X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩定的狀態。
從不穩定狀態要回到穩定狀態，此物質必需將多余的能量釋放出來，而此時是以熒光或光的形態被釋放出來。
熒光X射線鍍層厚度測量儀或成分分析儀的原理就是測量這被釋放出來的熒光的能量及強度，來進行定性和定量分析
應用實例圖示
| （1）單鍍層：Ag/xx |
| （2）合金鍍層：Sn-Pb/xx |
| （3）雙鍍層：Au/Ni/xx |
| Ag |
| Sn-Pb |
| Au |
| 底材 |
| 底材 |
| Ni |
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| 底材 |
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| （4）合金鍍層：Sn-Bi/xx |
| （5）三鍍層：Au/Pd/Ni/xx |
| （6）化學鍍層：Ni-P/xx |
| Sn-Bi |
| Au |
| Ni-P |
| 底材 |
| Pd |
| 底材 |
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| Ni |
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| 底材 |
韓國XRF2000鍍層測厚儀
儀器功能
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XRF2000電鍍測厚儀/電鍍膜厚測試儀
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測量范圍:0.04-35um
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