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公司基本資料信息
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| 真空井式坩堝爐，集控制系統與爐膛一體，其中爐膛保溫材料采用整體真空吸附成型，程控硅碳棒加熱。超大口徑的石英爐腔和真空密封法蘭系統，可在流動氣氛和真空狀態下快速加熱樣品。主要用于金屬、非金屬及化合物材料進行燒結、融化、分析。控制面板配有智能溫度調節儀，控制電源開關、主加熱工作/停止按鈕，以便隨時觀察。 坩堝爐的技術參數 工作溫度：≤1100℃ 溫度：1200℃ 控溫方式：智能化可編程控制 升溫最快速率：40℃/min 恒溫精度：±1℃ 爐門結構：上開式 工作電源：AC220V 額定功率：3KW 主要特點： 硅碳棒作為發熱元件，可加熱到1200℃ 高純石英杯（2520不銹鋼）：250外徑x 230內徑x 300高mm 。高精度不銹鋼針閥和真空表及真空法蘭可直接使用。內置30段可編程精密數字溫度控制器可控制升降溫速率。 坩鍋爐主要應用： 煅燒真空或惰性氣體的高純度化合物 退火或擴散半導體晶片多達6“直徑 坩堝高溫提取出效果圖
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